聚碳酸酯蚀刻产物在NaOH溶液中的浓度对体蚀刻速度及相对灵敏度的影响

吴日升; 崔浣华

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聚碳酸酯蚀刻产物在NaOH溶液中的浓度对体蚀刻速度及相对灵敏度的影响

更新时间：2022-08-16

- 聚碳酸酯蚀刻产物在NaOH溶液中的浓度对体蚀刻速度及相对灵敏度的影响
- Effect of the concentration of polycarbonate etching products in NaOH solution on bulk etch rate and relative sensitivity
- 核技术 1988年11卷第9期
- 作者机构：
  
  中国科学院高能物理研究所
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  中图分类号：
- 纸质出版日期：1988-09
- 稿件说明：
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吴日升, 崔浣华. 聚碳酸酯蚀刻产物在NaOH溶液中的浓度对体蚀刻速度及相对灵敏度的影响[J]. 核技术, 1988,11(9):8-9.

Risheng Wu, Huanhua Cui. Effect of the concentration of polycarbonate etching products in NaOH solution on bulk etch rate and relative sensitivity[J]. Nuclear techniques, 1988, 11(9): 8-9.
吴日升, 崔浣华. 聚碳酸酯蚀刻产物在NaOH溶液中的浓度对体蚀刻速度及相对灵敏度的影响[J]. 核技术, 1988,11(9):8-9. DOI：

Risheng Wu, Huanhua Cui. Effect of the concentration of polycarbonate etching products in NaOH solution on bulk etch rate and relative sensitivity[J]. Nuclear techniques, 1988, 11(9): 8-9. DOI：

摘要

本文研究聚碳酸酯

（国产）和

（Lexan）蚀刻产物在温度60、70℃和6、7mol/l NaOH溶液中的浓度对体蚀刻速度

及相对灵敏度（

）的影响。

和

的

值随它们的蚀刻产物浓度的上升而增加，在蚀刻产物浓度达到某一值后

趋于平稳，并保持此最大值；而

值基本上不随蚀刻产物浓度而变化。

Abstract

Effects of the concentration of polycarbonate

(domestic) and Lexan (

) etching products in NaOH solution on bulk etch rate (

) and relative sensitivity (

)were studied at 60 and 70℃ and in the solution of 6 and 7 mol/1 NaOH. It is shown that the bulk etch rate (

) for

and

increases with increasing concentration of the etching products in NaOH solution. After the concentration of etching products reaches a certain value

the bulk etch rate reaches a maximum and remains unchanged. The relative sensitivity

/Vg

is found to be independent of etching product concentration.

关键词

Keywords

references

D. D. Peterson , Rev. Sci. Instr. , 41 （ 1970 ）, 1252 .

H. G. Paretzke , Nucl. Instr. Meth. , 17 （ 1973 ）, 597 .

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