Makrofol薄膜蚀刻特性研究

郝秀红; 郭士伦

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Makrofol薄膜蚀刻特性研究

更新时间：2022-08-16

- Makrofol薄膜蚀刻特性研究
- Study on etching behavior of makrofol film
- 核技术 1988年11卷第9期
- 作者机构：
  
  中国原子能科学研究院
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版日期：1988-09
- 稿件说明：
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郝秀红, 郭士伦. Makrofol薄膜蚀刻特性研究[J]. 核技术, 1988,11(9):15-16.

Xiuhong Hao, Shilun Guo. Study on etching behavior of makrofol film[J]. Nuclear techniques, 1988, 11(9): 15-16.
郝秀红, 郭士伦. Makrofol薄膜蚀刻特性研究[J]. 核技术, 1988,11(9):15-16. DOI：

Xiuhong Hao, Shilun Guo. Study on etching behavior of makrofol film[J]. Nuclear techniques, 1988, 11(9): 15-16. DOI：

摘要

本文研究了Makrofol KG膜的总体蚀刻特性。研究结果表明，体蚀刻速度与蚀刻温度遵守Arr-henius方程

=a•

，其中，体激活能

=0.66±0.02eV。体蚀刻速度与蚀刻浓度的关系为

，在1—10mol/l NaOH溶液中，

=2.02。

Abstract

The bulk etching behavior of makrofol KG film has been studied. It is shown that the bulk etching rate as a function of etching temperature can be described by Arrhenius equation

-E/KT

The activation energy for bulk etching is

=0.66±0.02eV. The relation of the bulk etching rate to the concentration of etchant is

where

=2.02 for 1 to 10 mol/l NaOH.

关键词

Keywords

references

G. Somogyi and I. Hunyadi , Nucl. Tracks , （ 1979 ）, 2 : 443 .

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