您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
高能氩离子辐照SiO2玻璃的正电子寿命谱学研究
更新时间:2021-03-12
    • 高能氩离子辐照SiO2玻璃的正电子寿命谱学研究

    • Positron lifetime study of SiO2 glass irradiated with high energy Ar ions

    • 核技术   2001年第6期
    • 中图分类号: TL34
    • 纸质出版日期:2001-06-01

    移动端阅览

  • [1]朱智勇,孙友梅,金运范,李长林,侯明东,刘昌龙,张崇宏,孟庆华,王志光,陈克勤,鲁光军.高能氩离子辐照SiO_2玻璃的正电子寿命谱学研究[J].核技术,2001(06):439-444. DOI:

    ZHU Zhiyong SUN Youmei JIN Yunfan LI Changlin HOU Mingdong LIU Changlong ZHANG Chonghong MENG Qinghua WANG Zhiguang CHEN Keqin. Positron lifetime study of SiO2 glass irradiated with high energy Ar ions[J]. Nuclear techniques, 2001, (6): 439-444. DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

38

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

正电子湮没寿命测量统计精度研究
用EXAFS研究pH对水溶液中Zn(Ⅱ)微观结构的影响
用正电子湮没技术研究不同化学成分的二元TiAl合金中的微观缺陷
β+-γ符合正电子湮没寿命谱仪的研制
TiAl金属间化合物的淬火缺陷研究

相关作者

李楠
祁宁
陈志权
王波
潘纲
李贤良
杜永华
谢亚宁

相关机构

武汉大学 物理科学与技术学院 核固体物理湖北省重点实验室
中国科学院高能物理研究所同步辐射室
中国科学院高能物理研究所同步辐射室 北京 100085 重庆出入境检验检疫局技术中心
中国科学院生态环境研究中心环境水化学国家重点实验室
0