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同步辐射光刻技术研究进展
更新时间:2021-03-12
    • 同步辐射光刻技术研究进展

    • Investigation on synchrotron radiation lithography technology

    • 核技术   2002年第10期
    • 中图分类号: TN405
    • 纸质出版日期:2002-10-01

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  • [1]陈大鹏,叶甜春,谢常青,李兵,董立军,胥兴才,赵玪莉,韩敬东,彭良强,伊福庭,韩勇,张菊芳.同步辐射光刻技术研究进展[J].核技术,2002(10):817-821. DOI:

    CHEN Dapeng YE Tianchun XIE Changqing LI Bing DONG Lijun XU Xingcai ZHAO Lingli HAN Jingdong. Investigation on synchrotron radiation lithography technology[J]. Nuclear techniques, 2002, (10): 817-821. DOI:

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相关作者

张菊芳
韩勇
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相关机构

中国科学院微电子中心
中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究中心
中国科学院微电子中心
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