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复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究
低能加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间：2021-03-12
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    • 复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究

    • Properties of Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC films prepared by composite ion plating

    • 核技术   2008年第2期
    • 中图分类号： TB43;O484.4

    • 纸质出版日期：2008-02-01

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  • [1]马胜歌,于大洋,杨宏伟,张以忱.复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究[J].核技术,2008(02):111-114. DOI：

    MA Shengge1 YU Dayang2 YANG Hongwei1 ZHANG Yichen2 1. Properties of Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC films prepared by composite ion plating[J]. Nuclear techniques, 2008, (2): 111-114. DOI：

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相关作者

覃礼钊
吴正龙
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相关机构

北京师范大学低能核物理研究所
遵义师范学院物理系
北京师范大学分析测试中心
北京机械工业自动化研究所
北京航空航天大学机械自动化学院
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