金属铀膜的制备及应用现状

易泰民; 邢丕峰; 李朝阳; 谢军; 郑凤成; 李国荣

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金属铀膜的制备及应用现状

低能加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间：2021-03-12

- 金属铀膜的制备及应用现状
- Progresses in uranium film fabrication and application
- 核技术 2009年32卷第12期
- 作者机构：
  
  中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家863高技术项目资助()
- DOI：
  中图分类号： O484.1
- 纸质出版日期：2009-12-01
- 稿件说明：
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[1]易泰民,邢丕峰,李朝阳,谢军,郑凤成,李国荣.金属铀膜的制备及应用现状[J].核技术,2009,32(12):905-910.

YI Taimin XING Pifeng LI Chaoyang XIE Jun ZHENG Fengcheng LI Guorong. Progresses in uranium film fabrication and application[J]. Nuclear techniques, 2009, 32(12): 905-910.
[1]易泰民,邢丕峰,李朝阳,谢军,郑凤成,李国荣.金属铀膜的制备及应用现状[J].核技术,2009,32(12):905-910. DOI：

YI Taimin XING Pifeng LI Chaoyang XIE Jun ZHENG Fengcheng LI Guorong. Progresses in uranium film fabrication and application[J]. Nuclear techniques, 2009, 32(12): 905-910. DOI：

摘要

介绍了国内外目前主要采用的制备金属铀膜的技术及各制备技术的应用现状

包括机械研磨、轧制、高真空蒸发沉积

脉冲激光气相沉积和溅射沉积

重点介绍了各种制备铀膜技术的工艺条件和制备出铀膜的厚度、表面质量、成分、晶粒结构以及其表征方法。以及薄膜沉积过程中生长速率和厚度监控的常用方法。

Abstract

Techniques of preparing metal uranium films and their application were discussed

including mechanical polishing

mechanical rolling

evaporating in high vacuum

pulse laser deposition and magnetron sputtering deposition.Technological parameter and thickness

surface quality

composition

grain structures of the uranium films were discussed in detail.The monitors of the uranium film thickness and deposition rate were briefly introduced.

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