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基于调制传递函数的极紫外干涉光刻分辨率影响因素研究
同步辐射技术及应用 | 更新时间：2025-09-01

    • 基于调制传递函数的极紫外干涉光刻分辨率影响因素研究

    • Study on factors affectingthe resolution of extreme ultraviolet interference lithography based on modulation transfer function

    • “极紫外干涉光刻技术在光刻胶性能检测中发挥重要作用，专家构建仿真模型评估影响因素，成功实现12.5纳米分辨率曝光，为光刻技术发展提供新方向。”
    • 核技术   2025年48卷第8期 文章编号：080101

    • DOI：10.11889/j.0253-3219.2025.hjs.48.240451    

      中图分类号： TL99

    • 收稿日期：2024-11-10，

      修回日期：2025-01-25，

      纸质出版日期：2025-08-15

    移动端阅览

  • 赵俊,孟祥雨,郭智等.基于调制传递函数的极紫外干涉光刻分辨率影响因素研究[J].核技术,2025,48(08):080101. DOI： 10.11889/j.0253-3219.2025.hjs.48.240451. CSTR： 32193.14.hjs.CN31-1342/TL.2025.48.240451.

    ZHAO Jun,MENG Xiangyu,GUO Zhi,et al.Study on factors affectingthe resolution of extreme ultraviolet interference lithography based on modulation transfer function[J].NUCLEAR TECHNIQUES,2025,48(08):080101. DOI： 10.11889/j.0253-3219.2025.hjs.48.240451. CSTR： 32193.14.hjs.CN31-1342/TL.2025.48.240451.

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