用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验

朱丹峰; 杜光天; 郭盘林; 朱周侠; 朱希恺; 傅云清; 胡伟; 邹亚明

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用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验

低能加速器技术、射线技术及应用 | 更新时间：2021-03-12

- 用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验
- Ion injection into EBIT with a miniature MEVVA ion sourse
- 核技术 2008年第2期
- 作者机构：
  
  1. 中国科学院上海应用物理研究所
  2. 复旦大学现代物理研究所
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号： TL503.3
- 纸质出版日期：2008-02-01
- 稿件说明：
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[1]朱丹峰,杜光天,郭盘林,朱周侠,朱希恺,傅云清,胡伟,邹亚明.用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验[J].核技术,2008(02):100-104.

ZHU Danfeng1 DU Guangtian1 GUO Panlin1 ZHU Zhouxia1 ZHU Xikai1 FU Yunqing2 HU Wei2 ZOU Yaming2 1. Ion injection into EBIT with a miniature MEVVA ion sourse[J]. Nuclear techniques, 2008, (2): 100-104.
[1]朱丹峰,杜光天,郭盘林,朱周侠,朱希恺,傅云清,胡伟,邹亚明.用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验[J].核技术,2008(02):100-104. DOI：

ZHU Danfeng1 DU Guangtian1 GUO Panlin1 ZHU Zhouxia1 ZHU Xikai1 FU Yunqing2 HU Wei2 ZOU Yaming2 1. Ion injection into EBIT with a miniature MEVVA ion sourse[J]. Nuclear techniques, 2008, (2): 100-104. DOI：

摘要

为给上海电子束离子阱（Electron Beam Ion Traps

EBIT）装置提供低电荷离子

我们研制了小型金属蒸汽真空弧（Metal Vapor Vacuum Arc

MEVVA）离子源

可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验。实验结果显示

合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到108

09/cm3。

Abstract

A modified miniature metal vapor vacuum arc ion source has been developed for the Shanghai electron beam ion trap. Several kinds of elements were tested to extract lowly charged ions

such as Fe

Ge and Ti. In this paper

we describe the design and features of the MEVVA. And experiment results of Au ions injection demonstrate that the Au ions were successfully injected and trapped in the drift tubes.

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